Hi-Tech

Ученым из Великобритании и Швеции удалось совместными усилиями создать новый материал, способный существенно сократить затраты на производство быстродействующих и сверхнадежных микросхем.

Лидия Силлер из Университета Ньюкасла и ее коллеги из Дарема и Гетебурга разработали относительно простой метод изготовления тонких пленок из нитрида золота. Как известно, золото повсеместно используется в электронной промышленности по причине того, что обладает целым рядом уникальных свойств. Золоту принадлежат абсолютные рекорды по проводимости, устойчивости к воздействию окружающей среды и теплопроводности, однако зачастую в электронике используются сплавы золота с никелем, кобальтом, железом и мышьяком в целях снижения себестоимости оборудования.

Экспериментальная установка для производства нитрида золота

В то же время, нитриды многих металлов гораздо устойчивее и долговечнее, чем сами металлы, при схожих электрических характеристиках, следовательно, из них получаются проводники меньшей толщины, и одновременно экономится драгоценный металл. К тому же, нитрид золота значительно дешевле золота, поэтому в течение более двадцати лет ученые пытались получить нитрид золота, без особого успеха вплоть до последнего времени. Основная проблема получения нитрида золота заключается в том, что золото крайне неохотно реагирует с азотом, даже при повышенных температуре и давлении.

Для получения нитрида золота Силлер и ее коллеги применили метод "ионной имплантации". Они разработали специальную установку, в которой золото в виде отдельных кристаллов или тонких пленок подвергается массированной бомбардировке низкоэнергитичными ионами азота. Само золото при этом находится в сверхвысоком вакууме. Результаты проведенной спектрографии показали, что подвергнутые подобной обработке золотые заготовки содержат нитрид золота.

Ученые, окрыленные таким успехом, заявляют, что легко могут модернизировать свою установку для производства нитрида золота в промышленных масштабах и уже подали соответствующий патент на свое изобретение.